日本DNP实现2nm工艺光掩模图案化 迈向更精细芯片制造

DNP大日本印刷本月12日宣布，成功在其光掩模制品上绘制了支持2nm及以下EUV工艺的精细光掩模图案。该企业还完成了支持High NA EUV光刻的光掩模的初步评估，并已向生态合作伙伴出样。

在现代光刻系统中，光掩模上的“大图案”是晶圆上芯片电路“小图案”的模板。DNP在2023年完成了适用于3nm工艺的光掩模开发。满足2nm及以下工艺的光掩模不仅需要在直线图案尺寸上较3nm世代产品缩小20%，还需要在复杂度更高的曲线图案上实现同比例的尺寸压缩。

DNP此次成功绘制精细图案，意味着其光掩模产品可满足2nm及以下名义制程逻辑半导体的生产需求，为更高效逻辑芯片的曝光打下了基础。DNP计划于2027财年（起始于同自然年4月）实现2nm光掩模量产。

考虑到DNP和Rapidus的合作关系，DNP的新光掩模预计将用于Rapidus计划于2025年4月启动的2nm试产线。